Anvendelse af siliciumnitrid keramiske materialer

Siliciumnitrid keramiske materialer har høj termisk stabilitet, stærk oxidationsmodstand og høje niveauer og fremragende funktioner af varestandard nøjagtighed. Da siliciumnitrid er en kovalent forbindelse med høj bindingsstyrke og kan danne en oxidbeskyttende film i luften, har den også enestående kemisk stabilitet. Det vil ikke blive oxideret under 1200°C. Dannelsen af ​​en beskyttende film ved 1200~1600°C kan forhindre yderligere. Den oxideres og vil ikke blive fugtet eller korroderet af mange smeltede metaller eller legeringer såsom aluminium, bly, tin, sølv, messing, nikkel osv., men kan være korroderet af smeltet magnesium, nikkel-chrom legering, rustfrit stål og andre smeltede metaller. Siliciumnitrid varmeelement

Siliciumnitrid keramiske materialer kan bruges til højtemperaturtekniske komponenter, avancerede ildfaste materialer i metallurgisk industri, anti-korrosionskomponenter og tætningskomponenter i kemisk industri, værktøjer og skærende værktøjer i bearbejdningsindustrien mv.

Da siliciumnitrid kan danne en stærk forbindelse med siliciumcarbid, aluminiumoxid, thoriumdioxid, bornitrid osv., kan det bruges som kontaktmateriale til modifikation med forskellige proportioner.

Derudover kan siliciumnitrid også bruges i solceller. Efter at siliciumnitridfilmen er belagt med PECVD-metoden, kan den ikke kun bruges som en anti-reflektionsfilm for at reducere refleksionen af ​​indfaldende lys, men også under afsætningen af ​​siliciumnitridfilmen kommer reaktionsproduktets hydrogenatomer ind. siliciumnitridfilmen Såvel som i siliciumchippen spiller den en rolle ved passivering af defekter. Forholdet mellem antallet af siliciumnitrid og siliciumatomer her er ikke et alvorligt 4:3, men det er ikke fast inden for et vist område i henhold til de forskellige tekniske forhold, og de fysiske egenskaber af filmen svarende til forskellige atomforhold er forskellige .

Anvendes i gasturbiner med ultrahøj temperatur, flymotorer, elektriske ovne mv.